에너지경제

삼성전자.


삼성전자가 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D)과 생산시설 확충에 133조 원을 투자한다. 투자에 따른 직접 고용만 1만 5000명 규모다. 아울러 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 반도체 설계 전문 업체(팹리스), 설계 서비스 업체(디자인 하우스) 등 국내 시스템 반도체 생태계 경쟁력도 강화해 한국 시스템 반도체 산업 발전에 앞장선다는 계획이다.

삼성전자는 24일 2030년까지 국내 시스템 반도체 R&D 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자한다고 밝혔다. 향후 경기도 화성사업장 신규 극자외선(EUV) 라인을 활용해 시스템 반도체 생산량을 높이고 국내 신규 라인 투자도 지속 추진한다는 계획이다. 또 기술 경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D·제조 전문인력 1만 5000명을 채용한다는 방침이다.

삼성전자는 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조 원의 R&D·시설 투자가 집행되고, 생산량 증가에 따라 42만 명의 간접 고용 유발 효과가 발생할 것으로 예상하고 있다. 또 생산시설 확충에 따라 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 전망된다.

삼성전자는 국내 중소 반도체업체 협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업 생태계도 강화한다는 설명이다. 국내 중소 팹리스 고객이 제품 경쟁력을 강화하고 개발 기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 설계 자산(IP), 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP를 호혜적으로 지원한다. 아울러 보다 효과적인 제품 개발을 위해 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 툴과 소프트웨어(SW) 등도 도울 방침이다.

삼성전자 클린룸 반도체 생산 현장. 사진 제공=삼성전자


소품종 대량 생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량 생산이 특징인 시스템 반도체 분야에서 국내 중소 팹리스업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는 데 어려움이 있었다.

삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해 국내 중소 팹리스업체의 소량 제품 생산을 적극 지원한다. 국내 중소 팹리스업체의 개발 활동에 필수적인 멀티 프로젝트 웨이퍼(MPW) 프로그램도 공정당 연간 2∼3회로 확대 운영한다. 삼성전자는 또 국내 디자인 하우스 업체와 외주 협력도 확대해나갈 예정이다.

삼성전자가 이날 시스템 반도체 대규모 투자 계획을 밝힌 데에는 메모리 반도체에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위를 달성하겠다는 ‘반도체 비전 2030’에 따른 것이다. 삼성전자 측은 "과감하고 선제적인 투자와 국내 중소업체와의 상생 협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업 발전에 앞장설 계획"이라고 설명했다.


[에너지경제신문=이종무 기자]
 

     
[저작권 ⓒ에너지경제, 무단전재 및 재배포 금지]

안드로이드앱 다운로드

Copyright ⓒ ekn.kr all rights reserved.