신범주 TL·황선환 TL·장세억 SKHU 교수 등 수상
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▲SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 이바지한 특허를 발명한 구성원에게 포상하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 지난 7일 개최했다. (왼쪽부터)김윤욱 지속경영담당 부사장, 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU 교수, 차선용 미래기술연구원 부사장 |
올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤욱 지속경영담당 부사장, 민경현 특허담당 부사장 등 담당 임직원이 수상자 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.
최고상인 금상은 총 2건으로 D램 내부 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 신범주 D램개발 TL과 D램 내부 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SK하이닉스 사내대학(SKHU) 교수가 수상했다.
낸드플래시와 솔루션, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 금상 2건, 은상 3건, 동상 5건 등 총 10건을 혁신특허로 선정됐다. 이를 발명한 구성원 19명에게는 상패와 총상금 2억1500만원을 전달했다.
SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 시행해 매출과 기술혁신에 크게 이바지한 특허를 선정하고 이를 발명한 구성원에게 포상하고 있다. SK하이닉스는 제도를 기반으로 구성원 연구 의욕을 고취하고 회사 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 글로벌 일류 기술기업으로 나아가기 위한 강한 특허를 지속해서 발굴해 나간다는 계획이다.
jinsol@ekn.kr
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